TSMC احتمالا تا زمانی که فرایند 1 نانومتری در دهه 2030 رونمایی شود، از ابزارهای تولید تراشه نسل بعدی EUV استفاده نخواهد کرد.

برخلاف اینتل، TSMC اعلام نکرده که زمان شروع استفاده از ابزار تراشه‌سازی EUV نسل بعدی High-NA شرکت ASML را برنامه‌ریزی کرده است، که این موضوع منجر به تعداد زیادی حدس و گمان شده است.

یک ماه پیش، یک تحلیلگر در یادداشتی به مشتریان نوشت که TSMC منتظر استفاده از ابزار High-NA است تا زمانی که فرایند فناوری 1 نانومتری خود را آغاز کند.

این هفته، DigiTimes نیز با منابع خود در شرکت‌های سازنده ابزارهای کارخانه تأیید کرد که TMCS منتظر استفاده از ابزار نسل بعدی می باشد، اگرچه باید اعلام کنیم که  TSMC این خبر را رسماً اعلام نکرده است.

تحلیلگران از SemiAnalysis معتقدند که TSMC شروع فناوری فرآیند High-NA EUV (معروف به A10)، که با فرض اینکه TSMC ریتم فعلی معرفی نودهای جدید خود را حفظ کند، در دهه 2029-2030 شروع خواهد کرد.

اینتل برای فناوری فرآیند پس از 18A از ابزار High-NA EUV استفاده خواهد کرد که احتمالاً به معنای شروع استفاده از آن‌ها در دوره 2026-2027 خواهد بود (با این حال، اینتل به صورت رسمی زمانبندی را تأیید نکرده است).

در همین حال، تمام سازندگان برجسته تراشه و حافظه ابزارهای High-NA EUV را برای تحقیق و توسعه خود خریداری کرده‌اند، اما هنوز زمانبندی‌های استقرار عمومی را مشخص نکرده‌اند.

همه تولیدکنندگان تراشه عجله ای برای استقرار این ابزارهای تولید تراشه به صورت تجاری ندارند زیرا سیستم‌های EUV موجود می‌توانند با الگوبرداری دوگانه، رزولوشن 8 نانومتری را به طور قابل تصوری برای کاهش کلی هزینه فراهم کنند.

ابزار لیتوگرافی High-NA EUV امکان دستیابی به ابعاد 8 نانومتری را با یک نوردهی واحد فراهم می‌کند که به طور قابل‌توجهی نسبت به 13 نانومتر ارائه شده توسط ابزارهای Low-NA EUV موجود بهبود می‌یابد.

ظاهراً ابزارهای High-NA EUV نیز بسیار گران هستند و نیاز به تغییرات اساسی در تاسیسات ساخت موجود دارند تا اندازه عظیم خود را تطبیق دهند.
نکته ای که باید در نظر داشت این است که برنامه ها بر اساس عملکرد فناوری های موجود و همچنین سایر عوامل بازار تغییر می کنند.

اگرچه به نظر نمی‌رسد که TSMC قرار است ابزارهای High-NA EUV را به زودی وارد کند، زایر جز برنامه‌های رسمی  این شرکت نیستند و اگر هم بودند، برنامه‌های این شرکت همیشه در معرض تغییر هستند.