به گزارش Intel، این شرکت قصد دارد تا سال آینده شش عدد  از ده عدد دستگاه از ابزارهای لیتوگرافی پیشرو را از ASML خریداری کند.

طبق گزارش منتشر شده توسط TrendForce، Intel اولین شرکتی خواهد بود که یک ابزار لیتوگرافی فوق‌اولتراویولت (EUV) با دیافراگم عددی 0.55 (high-NA) از ASML دریافت می‌کند و همچنین بیشتر دستگاه‌های این شرکت را در سال 2024 به دست خواهد آورد.

در ابتدا، این شرکت قصد داشت از این فناوری لیتوگرافی برای نود تولیدی Intel 18A (18 آنگسترم، کلاس 1.8 نانومتر) برای چاپ کوچکترین ویژگی‌ها استفاده کند، اما به جای آن، به دلیل تأخیر در دسترسی به ابزارهای high-NA، تصمیم گرفت از چاپ چندگانه EUV استفاده کند.

شش دستگاه اضافی high-NA EUV litho که شرکت قصد دارد در سال آینده دریافت کند، اسکنرهای Twinscan EXE:5200 خواهند بود که برای تولید انبوه تراشه‌ها با استفاده از فناوری‌های فرآیندی Intel 18A یا دیگر فناوری‌های فرآیندی در سال‌های 2025 و بعد از آن استفاده خواهند شد. استفاده از Twinscan EXE ممکن است بر چرخه‌های تولیدی شرکت تأثیر مثبتی داشته باشد، اما سخت است بگوییم که آیا این تأثیر مثبت بر هزینه‌های Intel خواهد داشت چرا که این دستگاه‌ها به طور قابل توجهی گران‌تر خواهند بود (بعضی از منابع بین 300 تا 400 میلیون دلار) نسبت به دستگاه‌های Twinscan NXE:3600D یا NXE:3800E از ASML که هزینه آن‌ها از 200 میلیون دلار فراتر می‌رود.

علاوه بر این، به دلیل اینکه ابزارهای لیتوگرافی high-NA دارای اندازه دیسک دو برابر کوچک‌تری هستند، استفاده از آن‌ها با استفاده از دستگاه‌های معمولی EUV متفاوت خواهد بود. Intel پیش از رقبای خود در زمینه یادگیری استفاده از high-NA خواهد بود که باعث به دست آوردن چندین مزیت برای آن خواهد شد.

به طور خاص، به دلیل اینکه احتمالاً Intel اولین شرکتی خواهد بود که تولید حجم بالایی را با استفاده از ابزارهای high-NA آغاز می‌کند، اکوسیستم ابزارهای کارخانه‌ای به طور ضروری دنبال نیازهای آن خواهد شد. این نیازها احتمالاً به استانداردهای صنعتی ترجمه خواهد شد که احتمالاً به Intel مزایای استراتژیک نسبت به رقبایی مانند TSMC و Samsung Foundry خواهد داد.

اما رقبای Intel نیز به دنبال دریافت ابزارهای high-NA هستند.

نایب رئیس سامسونگ الکترونیک و رئیس بخش راه حل های دستگاه شرکت کیونگ کیو هیون این هفته گفت که این شرکت با ASML در مورد تهیه ابزارهای NA بالا به توافق رسیده است.